[发明专利]一种待测表面形貌测量方法及装置、电子设备和存储介质

摘要

本公开涉及光学三维形貌测量技术领域，尤其涉及一种待测表面形貌测量方法及装置、电子设备和存储介质。所述待测表面形貌测量方法包括：将光源发出的光束进行分束，形成测量光和参考光，测量光到达待测表面、并被待测表面反射，参考光到达反射镜表面、并被反射镜表面反射，被反射的测量光和被反射的参考光合束后、产生干涉图像；调整测量光和参考光之间的相对光程差，使相对光程差在预设扫描范围内变化；对测量光和/或参考光进行相位补偿，以降低干涉图像中时间相移干涉条纹的密度；采集不同时刻的干涉图像，根据干涉图像序列，确定所述待测表面的高度分布。该过程利用相位补偿的方法，降低了测量光和参考光合束后形成的时间相移干涉条纹密度。