[发明专利]用于清洗抛光设备的装置及抛光设备在审
申请号: | 202211691173.3 | 申请日: | 2022-12-27 |
公开(公告)号: | CN115816257A | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
发明(设计)人: | 袁松柏 | 申请(专利权)人: | 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;B24B51/00;B24B57/02 |
代理公司: | 西安维英格知识产权代理事务所(普通合伙) 61253 | 代理人: | 侯丽丽;宋东阳 |
地址: | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明实施例公开了用于清洗抛光设备的装置及抛光设备,所述装置包括:用于向抛光液存储箱的内部喷洒清洗液的喷射器;设置在所述抛光液存储箱内的超声波搅拌器,所述超声波搅拌器设置成能够搅拌所述抛光液存储箱内的所述清洗液并且能够发出超声波以有助于所述清洗液清洗所述抛光液存储箱;设置在所述抛光液存储箱的供液口处的供给阀;其中,所述装置设置成执行两种模式的清洗操作,在第一模式,所述供给阀关闭并且所述超声波搅拌器工作,以通过所述清洗液对所述抛光液存储箱的内部进行清洗;在第二模式,所述供给阀开启,使得所述清洗液能够从所述抛光液存储箱经由所述供液口进入供给管路,以对所述供给管路进行清洗。 | ||
搜索关键词: | 用于 清洗 抛光 设备 装置 | ||
【主权项】:
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