[发明专利]等离子体处理装置和气体供给方法在审
| 申请号： | 202211594618.6 | 申请日： | 2022-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN116344309A | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 四本松康太;荒卷昂;李黎夫 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供控制等离子体处理的面内均匀性的等离子体处理装置和气体供给方法。本发明提供一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：等离子体处理室，其具有构成为能够支承基片的基片支承部；具有多个气体导入部的喷淋头，其中，上述多个气体导入部构成为能够分别向上述等离子体处理室内的各区域导入气体；气体供给部，其构成为能够向多个上述气体导入部供给气体；等离子体生成部，其构成为能够生成上述气体的等离子体；和控制部，其构成为能够至少控制上述气体供给部，上述气体供给部包括：气体单元，其构成为能够向多个上述气体导入部供给共用气体；和注入单元，其构成为能够向多个上述气体导入部中的所选择的上述气体导入部供给注入气体，上述控制部控制上述注入单元，以使得将2种以上的上述注入气体供给到2个不同的上述气体导入部。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 气体 供给 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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