[发明专利]光掩模版边缘清洗设备用平行定位装置在审
申请号: | 202211579900.7 | 申请日: | 2022-12-09 |
公开(公告)号: | CN115857272A | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 徐飞;张博文 | 申请(专利权)人: | 常州瑞择微电子科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;B08B3/02;B08B13/00 |
代理公司: | 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙) 32258 | 代理人: | 张秋月 |
地址: | 213000 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种光掩模版边缘清洗设备用平行定位装置,包括安装架、两个滑动测距机构、条形喷嘴和转动驱动机构;两个滑动测距机构位于所述安装架两侧,包括滑配在所述安装架上的滑动件和安装在所述滑动件上并用于测量其与校准件之间的距离的测距传感器;条形喷嘴的中间位置转动安装在所述安装架上,每个端部通过一个联动机构连接一个滑动件,所述条形喷嘴在转动的过程中通过所述联动机构带动滑动件滑动;转动驱动机构安装在所述安装架和所述条形喷嘴之间,用于驱动所述条形喷嘴转动至使两个测距传感器测得的距离相等的位置。本发明可以很方便地对条形喷嘴进行平行定位。 | ||
搜索关键词: | 模版 边缘 清洗 备用 平行 定位 装置 | ||
【主权项】:
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- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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