[发明专利]一种管式CVD设备的进抽气系统在审
申请号: | 202211570787.6 | 申请日: | 2022-12-08 |
公开(公告)号: | CN116005130A | 公开(公告)日: | 2023-04-25 |
发明(设计)人: | 陶利松;任建强 | 申请(专利权)人: | 浙江合特光电有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/24 |
代理公司: | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人: | 计恩慈 |
地址: | 310000 浙江省杭州市萧山区*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请涉及光伏电池制造设备的领域,尤其是涉及一种管式CVD设备的进抽气系统,包括连通于管式炉且用于送入反应气体的进气管和用于抽出反应产物的抽气管,进气管位于管式炉中一端连通有分布管,分布管开口长度方向和石墨舟长度方向相一致,分布管沿自身宽度方向设置数个,分布管的出气口朝向于石墨舟上部,抽气管进气口位于分布管出气口的上方,使得各个分布管能够朝向石墨舟各处较为均匀的进行送气,提升石墨舟上各处的硅片和反应气体之间充分接触以进行均匀的非晶硅薄膜沉积。 | ||
搜索关键词: | 一种 cvd 设备 进抽气 系统 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的