[发明专利]一种基于光腔衰荡技术的高反射光学元件总积分散射的测量方法在审

专利信息
申请号: 202211569422.1 申请日: 2022-12-08
公开(公告)号: CN115773864A 公开(公告)日: 2023-03-10
发明(设计)人: 李斌成;王静;赵斌兴;韩艳玲;杨哲 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及一种基于光腔衰荡技术测量高反射光学元件总积分散射的方法,通过采用双通道光腔衰荡技术同步测量从高反射输出腔镜透射的和从被测高反射光学元件在一定立体角内散射的光腔衰荡信号,在两路光腔衰荡信号的衰荡时间一致时通过两路信号幅值的比值和高反射输出腔镜透过率计算得到被测高反射光学元件在该收集立体角时的散射值;改变收集立体角大小测量不同收集立体角时的散射值,获得散射值与收集立体角的关系曲线,然后将测量的关系曲线与描述高反射光学元件散射特性的散射理论进行拟合,获得被测高反射光学元件的总积分散射。该测量方法具有测量灵敏度高、测量精度高、测量结果不受环境杂散光影响等优点。
搜索关键词: 一种 基于 光腔衰荡 技术 反射 光学 元件 积分 散射 测量方法
【主权项】:
暂无信息
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