[发明专利]一种铝合金超高洁净度化学清洗的方法在审

专利信息
申请号: 202211567320.6 申请日: 2022-12-07
公开(公告)号: CN116695129A 公开(公告)日: 2023-09-05
发明(设计)人: 佟毅;崔鑫;徐宏岩;秦洪达 申请(专利权)人: 北京富创精密半导体有限公司
主分类号: C23G1/12 分类号: C23G1/12;C23F1/20;B08B3/02;B08B3/12
代理公司: 沈阳中科博诚专利代理事务所(特殊普通合伙) 21275 代理人: 郑瑶
地址: 100176 北京市大兴区北京经*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种铝合金超高洁净度化学清洗的方法,属于IC超高洁净度清洗领域,通过该清洗方法,可有效的保证零件表面达到半导体高洁净度的使用要求。清洗后零件表面的痕量金属污染物通过ICP‑MS检测结果表明,对IC设备最为敏感的铜离子含量小于10E10atoms/cm2,是一种可靠性及操作性较高的铝合金超高洁净度清洗方法,通过清洗后零件可以实现在超高真空的洁净环境中的使用要求。
搜索关键词: 一种 铝合金 超高 洁净 化学 清洗 方法
【主权项】:
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