[发明专利]一种提高成膜质量的进气结构在审
| 申请号： | 202211545180.2 | 申请日： | 2022-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN115821376A | 公开（公告）日： | 2023-03-21 |
| 发明（设计）人： | 刘鹏;徐文立;沈磊 | 申请（专利权）人： | 宁波恒普真空科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 郑粟文 |
| 地址： | 315300 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开一种提高成膜质量的进气结构，涉及半导体生产设备技术领域，包括进气室、反应室和基座；进气室内设置有多个保护气体流道和多个反应气体流道；多个保护气体流道和多个反应气体流道的进气端均位于进气室外侧，多个保护气体流道和多个反应气体流道的出气端均位于进气室底部；且相邻的反应气体流道的出气端被保护气体流道的出气端完全隔开。本发明中的提高成膜质量的进气结构，采用多个相互独立的密闭流道进气，保护气体将多种反应气体隔离，并通过设置调整件，改变每种反应气流道的横截面积，以改变反应气的在出气端的流速避免沉积。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 质量 结构 | ||
【主权项】：
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