[发明专利]一种化学机械抛光系统和抛光方法在审
| 申请号： | 202211523667.0 | 申请日： | 2022-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN115870874A | 公开（公告）日： | 2023-03-31 |
| 发明（设计）人： | 路新春;许振杰;王国栋;赵德文;王同庆 | 申请（专利权）人： | 华海清科股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/34;B24B55/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300350 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光系统和抛光方法，所述化学机械抛光系统包括前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；其中，所述清洗单元包括第一清洗单元和第二清洗单元，所述第一清洗单元和第二清洗单元相对于清洗单元的横向中心线对称设置；所述第一清洗单元和第二清洗单元包括后处理模块、前部传输机械手和后部传输机械手，所述后处理模块竖向层叠设置以形成层叠模组；所述第一清洗单元和第二清洗单元分别配置一对层叠模组，其中一个层叠模组与前部传输机械手的连线平行于另一个层叠模组与后部传输机械手的连线。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 系统 抛光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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