[发明专利]一种方形凹槽抛光方法在审
| 申请号： | 202211506373.7 | 申请日： | 2022-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN115781422A | 公开（公告）日： | 2023-03-14 |
| 发明（设计）人： | 刘国淦 | 申请（专利权）人： | 上海现代先进超精密制造中心有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B29/02 |
| 代理公司： | 上海申浩律师事务所 31280 | 代理人： | 陆叶 |
| 地址： | 201292 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学零件加工领域。一种方形凹槽抛光方法，包括如下步骤，步骤一，将工件固定在二维平移机构上；步骤二，移动二维平移机构，将弹性抛光盘组件置入工件的方形凹槽内，将方形凹槽与弹性抛光盘组件进行位置对准；弹性抛光盘组件包括从上至下顺序连接的勒洛三角形导向块、弹性连接结构以及三爪抛光盘；弹性抛光盘组件通过万向联轴器与电机联动；步骤三，调节勒洛三角形导向块的上下高度，调节抛光压力；勒洛三角形导向块活动安装在一限位架上，限位架可上下位置调节，限位架上开设有用于勒洛三角形导向块活动的方形导向槽；步骤四，电机启动带动弹性抛光盘组件旋转，三爪抛光盘的端部的运动轨迹为方形。本发明实现了方形凹槽的研磨。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 方形 凹槽 抛光 方法 | ||
【主权项】：
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