[发明专利]一种方形凹槽抛光方法

权利要求书

1.一种方形凹槽抛光方法，其特征在于，包括如下步骤，

步骤一，将工件固定在二维平移机构上；

步骤二，移动二维平移机构，将弹性抛光盘组件置入工件的方形凹槽内，将方形凹槽与弹性抛光盘组件进行位置对准；

所述弹性抛光盘组件包括从上至下顺序连接的勒洛三角形导向块、弹性连接结构以及三爪抛光盘；所述弹性抛光盘组件通过万向联轴器与电机联动；

步骤三，调节勒洛三角形导向块的上下高度，调节抛光压力；

勒洛三角形导向块活动安装在一限位架上，所述限位架可上下位置调节，限位架上开设有用于勒洛三角形导向块活动的方形导向槽；

步骤四，电机启动带动弹性抛光盘组件旋转，三爪抛光盘的端部的运动轨迹为方形。

2.根据权利要求1所述的一种方形凹槽抛光方法，其特征在于：所述电机的转速为30～100转/分钟。

3.根据权利要求1所述的一种方形凹槽抛光方法，其特征在于：所述勒洛三角形导向块的顶部连接有旋转轴，所述旋转轴与所述万向联轴器铰接；

所述限位架上开设有用于旋转轴活动的圆孔，所述圆孔与所述方形导向槽上下对接导通。

4.根据权利要求1所述的一种方形凹槽抛光方法，其特征在于：所述三爪抛光盘的外边缘的截面为三角形或者与勒洛三角形导向块的角部截面相匹配。

5.根据权利要求1所述的一种方形凹槽抛光方法，其特征在于：还包括支撑架，所述支撑架上安装有电机支撑横梁，所述电机支撑框架用于安装所述电机，所述电机支撑框架与所述支撑架纵向滑动连接，且所述电机支撑框架与所述支撑架通过锁紧机构相对固定；

所述支撑架上还安装有限位架，所述限位架与所述支撑架纵向滑动连接，且所述限位架与所述支撑架通过锁紧机构相对固定。

6.根据权利要求1所述的一种方形凹槽抛光方法，其特征在于：通过调节限位架的高度来调节弹性抛光盘的抛光压力，抛光压力控制在5～20N。

7.根据权利要求1所述的一种方形凹槽抛光方法，其特征在于：二维滑动平台进行前后方向以及左右方向的摆动，且摆动幅度为+/-0.5mm；

工件上方形凹槽的尺寸为Amm*Amm；

三爪抛光盘旋转过程中形成长度为A-1mm以及宽度为A-1mm的方形结构。

8.根据权利要求1所述的一种方形凹槽抛光方法，其特征在于：所述勒洛三角形导向块以及所述三爪抛光盘上均开设有滑动连接传动轴的导向槽，所述勒洛三角形导向块与所述三爪抛光盘通过所述传动轴联动旋转；

所述弹性连接结构安装在所述传动轴的外围。

9.根据权利要求1所述的一种方形凹槽抛光方法，其特征在于：所述勒洛三角形导向块的材质为尼龙或聚四氟乙烯；

所述限位架的材质为不锈钢。

10.根据权利要求1所述的一种方形凹槽抛光方法，其特征在于：所述三爪抛光盘的侧壁黏附有橡胶层，所述橡胶层的外侧覆盖有抛光垫。