[发明专利]一种集成平面聚焦透镜结构的内线转移CCD及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202211450852.1 申请日: 2022-11-18
公开(公告)号: CN115663007A 公开(公告)日: 2023-01-31
发明(设计)人: 吴雪飞;王国鑫;张莉;王巨燕;向长江;周政;张洋 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十四研究所
主分类号: H01L27/148 分类号: H01L27/148
代理公司: 重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙) 50221 代理人: 廖宇
地址: 400060 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开了一种集成平面聚焦透镜结构的内线转移CCD及其制作方法,包括提供一制备好的外延片;对所述外延片的上表面执行表面平坦化操作,在所述外延片的上表面形成一平坦化层;在所述平坦化层的上表面制作一平面结构的超表面层,其中,所述超表面层用于对入射光进行聚焦。本发明相比于原有的透镜结构,采用稳定的无机材料替代原有的微透镜采用有机材料制备得到,使得本发明的透镜结构能够适应的工艺温度范围更广,器件的可靠性显著增强,同时采用2D的透镜结构代替3D的微透镜结构,保持了器件表面的平整性,可进一步与其他的片上集成工艺兼容。
搜索关键词: 一种 集成 平面 聚焦 透镜 结构 内线 转移 ccd 及其 制作方法
【主权项】:
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