[发明专利]去除厚铝刻蚀中的条状聚合物的方法在审

专利信息
申请号: 202211445399.5 申请日: 2022-11-18
公开(公告)号: CN115863167A 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 张振兴 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L21/3213 分类号: H01L21/3213;B81C1/00
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 郭四华
地址: 201203 上海市浦东新区中*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种去除厚铝刻蚀中的条状聚合物的方法,包括:步骤一、在底层结构上的第一氧化层的表面形成铝层,形成光刻胶图形。步骤二、采用第一次干法刻蚀工艺对铝层进行刻蚀以及对第一氧化层进行过刻蚀,过刻蚀的刻蚀气体采用含氯气体,以减少聚合物累积。步骤三、进行灰化处理以去除光刻胶图形以及聚合物,在灰化处理中还包括采用循环冲刷来剥离残留的光刻胶图形和聚合物。步骤四、在酸槽中进行湿法剥离工艺,湿法剥离工艺将湿法刻蚀时间分割从而形成多次湿法分段刻蚀,在各次湿法分段刻蚀完成后都进行多次冲洗,通过湿法分段刻蚀减少每次刻蚀时间,使酸槽的酸液保持新鲜,提高剥离效果。本发明能提高对厚度刻蚀中产生的聚合物的去除效果。
搜索关键词: 去除 刻蚀 中的 条状 聚合物 方法
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