[发明专利]高纯SiC晶体的制造方法在审
申请号: | 202211396415.6 | 申请日: | 2022-11-09 |
公开(公告)号: | CN116103752A | 公开(公告)日: | 2023-05-12 |
发明(设计)人: | 金佳福;姜秉昶;朴秉铉;田埈基;郑昌垣;全昇安 | 申请(专利权)人: | OCI有限公司 |
主分类号: | C30B25/00 | 分类号: | C30B25/00;C30B29/36;C30B28/14 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 谭天;孙雅雯 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 高纯SiC晶体的制造方法,本发明涉及制造高纯碳化硅(silicon carbide,SiC)晶体的方法,更具体地,涉及以优秀的收率大量生产杂质的含量极低的高纯SiC的方法。 | ||
搜索关键词: | 高纯 sic 晶体 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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