[发明专利]一种辐射面与匹配电阻一体化的曲面天线制造方法有效

专利信息
申请号: 202211331019.5 申请日: 2022-10-28
公开(公告)号: CN115478264B 公开(公告)日: 2023-05-26
发明(设计)人: 方杰;崔西会;刘建国;徐利明;万养涛;黎康杰;许冰;李文;聂剑坤;全旭宁;李佳;李枘;杨显涛;吴婷;冯雪华;刘振龙;伍艺龙;庞婷;卢茜;柳明辉;王兴平 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第二十九研究所
主分类号: C23C18/08 分类号: C23C18/08;C23C18/18;C22F1/10;H01Q17/00
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 贾林
地址: 610036 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及曲面天线技术领域,具体公开了一种辐射面与匹配电阻一体化的曲面天线制造方法,具体包括以下步骤:天线介质进行制备,采用激光减材方法在天线介质的表面进行工艺槽制造,并天线介质进行表面粗化处理;采用激光增材制造的方法在天线介质表面进行辐射面的电路制备,并热处理:采用激光增材制造的方法在在天线介质表面进行匹配电阻制备;采用干冰射流定向喷射方式对匹配电阻表面强化处理;利用激光调阻的方法对匹配电阻进行调阻;对于辐射面、匹配电阻的表面进行防护处理;完成制造。本发明能够有效的确保辐射面与匹配电阻高精度、高可靠性制造;有效的提高曲面天线的集成密度与隐身性能。
搜索关键词: 一种 辐射 匹配 电阻 一体化 曲面 天线 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第二十九研究所,未经中国电子科技集团公司第二十九研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211331019.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top