[发明专利]磁体系统、溅射设备和壳体盖在审
| 申请号： | 202211330810.4 | 申请日： | 2022-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN116121718A | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | T·桑德;K·施耐德;F·梅斯纳;G·格罗斯;S·莫沙默 | 申请（专利权）人： | 冯·阿登纳资产股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54;H05H1/30;H05H1/34;H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人： | 王珺;李文颖 |
| 地址： | 德国德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 涉及一种磁体系统、溅射设备和壳体盖。根据各种实施方式，磁体系统(100)可以包括：壳体(406g)，壳体具有壳体内部空间(406h)；磁体载体(102)，磁体载体设置在壳体内部空间(406h)中并且借助于壳体(406g)优选地相对于壳体位置固定地支承；壳体盖(206d)，壳体盖以与壳体(406g)拼接在一起的方式形成流体密封的腔室；其中壳体盖(406d)具有变速器级(804)、发电机(308)和将变速器级(804)与发电机(308)联接的转动馈通件(850)。 | ||
| 搜索关键词： | 磁体 系统 溅射 设备 壳体 | ||
【主权项】：
暂无信息
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