[发明专利]磁体系统、溅射设备和壳体盖

说明书

涉及一种磁体系统、溅射设备和壳体盖。根据各种实施方式，磁体系统(100)可以包括：壳体(406g)，壳体具有壳体内部空间(406h)；磁体载体(102)，磁体载体设置在壳体内部空间(406h)中并且借助于壳体(406g)优选地相对于壳体位置固定地支承；壳体盖(206d)，壳体盖以与壳体(406g)拼接在一起的方式形成流体密封的腔室；其中壳体盖(406d)具有变速器级(804)、发电机(308)和将变速器级(804)与发电机(308)联接的转动馈通件(850)。

技术领域

各种实施例涉及磁体系统、溅射设备和壳体盖。

背景技术

一般而言，工件或基板可以被工艺处理，例如机加工、覆层、加热、蚀刻和/或结构改变。用于对基板覆层的方法例如是阴极原子化(所谓的溅射)，阴极原子化是物理气相沉积(PVD)类型的。例如，一个或多个层可以借助于溅射(即通过溅射工艺)沉积在基板上。为此，可以借助于阴极将形成等离子体的气体离子化，其中可以借助于在此形成的等离子体将待沉积的材料(靶材料)原子化。然后可以将原子化的靶材料引导至基板，靶材料可以在基板处沉积并且形成层。

对阴极原子化的修改是借助于磁控管进行溅射，即所谓的磁控溅射，或所谓的反应磁控溅射。在此，可以借助于磁场来支持等离子体的形成。磁场可以由磁体系统产生并且穿透阴极(也称为磁控管阴极)，使得在靶材料表面(靶表面)处可以构成环形等离子体通道，即所谓的轨道，在该等离子体通道中可以形成等离子体。

等离子体的空间分布和与之相关的原子化速率非常敏感地取决于磁场的空间分布。因此，磁体系统对于各种工艺特性，诸如工艺稳定性、再现性、靶利用率和均匀性方面具有特别重要的意义。在此背景下，存在对改进，比如简化磁体系统和/或减少干扰性影响的基本需求。

发明内容

各种实施方式的一个方面可以直观地在于：提供可调节的磁场。借助对磁场的调节，可以影响靶材料的雾化，例如使得可以进行尽可能均匀的分子化溅射和/或覆层。

与之相关，已经直观的认识到：用于通信(例如信号传输或驱动控制)的以及功率供应(例如功率产生或功率传输)的、为此使用的部件放大了磁体系统的结构复杂性，这使其维护变难并且降低了其可靠性。

根据各种实施方式，提供呈壳体盖形式的连贯组件，该组件具有变速器级、发电机和转动馈通件以及可选地具有通信接口。这实现：用于能量产生和可选地用于传递信号的部件作为结构单元来提供，该结构单元可以整体地被更换。

变速器级和发电机用于在内部产生能量，而通信接口用于将信号传递给调节装置(其例如具有马达控制装置)。除了在运行期间的可靠功能实现之外，壳体盖在维护情况下可以作为完整的组件取下或更换，而不必影响或改变磁体系统的其余部件。

附图说明

附图示出

图1、图2以及图3A、图5和图6分别以各种视图示出根据各种实施方式的磁体系统；

图4和图7分别示出根据各种实施方式的溅射设备，并且图3B示出溅射设备的磁体系统；

图8和图9分别以各种视图示出根据各种实施方式的壳体盖；

图10以类似的示意立体图示出根据各种实施方式的壳体盖的信号传递链；

图11以示意立体图示出根据各种实施方式的壳体盖的动力学链的发电机侧的部分；和

图12以示意立体图示出根据各种实施方式的变速器级的驱动侧的变速器轮。

具体实施方式