[发明专利]基板处理方法和腔室清洁方法在审
| 申请号： | 202211327100.6 | 申请日： | 2022-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN116031130A | 公开（公告）日： | 2023-04-28 |
| 发明（设计）人： | 李元硕;尹荣培 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人： | 杨黎峰;张玫 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明构思提供了一种基板处理方法。所述基板处理方法包括：通过将过程等离子体传送到腔室的处理空间来处理基板；以及通过将清洁介质供应到定位在所述处理空间下方的所述腔室的排气空间来清洁排气空间。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 方法 清洁 | ||
【主权项】：
暂无信息
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