[发明专利]单晶硅样片清洗剂和清洗方法在审

专利信息
申请号: 202211317375.1 申请日: 2022-10-26
公开(公告)号: CN115537272A 公开(公告)日: 2022-12-30
发明(设计)人: 钟峰;蔺宝林;周佑林;潘洁 申请(专利权)人: 新疆晶科能源有限公司
主分类号: C11D1/78 分类号: C11D1/78;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/60;B08B3/08
代理公司: 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11603 代理人: 于淼
地址: 835800 新疆维吾尔自*** 国省代码: 新疆;65
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摘要: 发明公开了一种单晶硅样片清洗剂和清洗方法,单晶硅样片清洗剂包括:椰子油烷基酰胺磷酸酯4%、螯合剂0.2%‑0.4%、磷酸3%‑6%、氢氟酸2%‑5%、盐酸3%‑8%、硝酸0.1%‑0.3%,其余为去离子水。通过本发明提供的单晶硅样片清洗剂清洗单晶硅样片时,无需专业设备和特定场所进行操作,能够现场随时对单晶硅样片进行清洗,增加工序流转的便捷性,减少厂房、专业设备投入的成本,无需人工搅拌清洗,节约人工成本,并且清洗后的单晶硅样片清洗效果好,检测质量稳定均一。
搜索关键词: 单晶硅 样片 洗剂 清洗 方法
【主权项】:
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