[发明专利]一种光刻胶的涂布方法在审
| 申请号： | 202211259797.8 | 申请日： | 2022-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN115685685A | 公开（公告）日： | 2023-02-03 |
| 发明（设计）人： | 杨伟;王宇凡;方正;陈媛儒;王绪根;金乐群;姚振海;吴长明 | 申请（专利权）人： | 华虹半导体（无锡）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 王关根 |
| 地址： | 214028 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻胶的涂布方法，包括将待涂胶的晶圆进行预处理；采用动态涂胶方法在晶圆表面喷涂光刻胶以形成沿圆周方向由外到里的蚊香式光刻胶，并在晶圆的中心喷涂光刻胶；涂胶完成后，控制晶圆转动，令光刻胶成膜；对晶圆进行清洗和去边；将晶圆快速甩干。本发明解决了现有涂胶方式光刻胶易堆积在晶圆中心、光刻胶膜厚均匀性差的问题，改善了光刻胶膜厚均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 方法 | ||
【主权项】：
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