[发明专利]一种低损耗硅光芯片的端面耦合结构在审

专利信息
申请号: 202211245081.2 申请日: 2022-10-12
公开(公告)号: CN115693389A 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 武爱民;吕东升;冯大增;李昂 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01S5/026 分类号: H01S5/026;H01S5/12;H01S5/028;G02B6/42
代理公司: 上海泰博知识产权代理有限公司 31451 代理人: 钱文斌
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种低损耗硅光芯片的端面耦合结构,包括硅衬底,所述硅衬底上设有激光器安装区,所述激光器安装区的一侧且在硅衬底上设置有埋氧层,所述埋氧层上设置有浅刻蚀区,所述埋氧层和浅刻蚀区形成的截面刻蚀有斜切端面,所述斜切端面用于减小反射损耗,所述浅刻蚀区上设置有面对激光器安装区的脊波导,所述脊波导的入射端位于斜切端面处。本发明可以实现较高的耦合效率与对准容差。
搜索关键词: 一种 损耗 芯片 端面 耦合 结构
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211245081.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top