[发明专利]多层PCB沉铜工艺在审
申请号: | 202211192414.X | 申请日: | 2022-09-28 |
公开(公告)号: | CN115433926A | 公开(公告)日: | 2022-12-06 |
发明(设计)人: | 沈剑祥;张浩 | 申请(专利权)人: | 广德宝达精密电路有限公司 |
主分类号: | C23C18/30 | 分类号: | C23C18/30;C23C18/20;C23C18/22;C23C18/24;C23C18/38;H05K3/42 |
代理公司: | 合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙) 34160 | 代理人: | 田浩 |
地址: | 242200 安徽省宣城市广德经济*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了多层PCB沉铜工艺,涉及PCB沉铜技术领域,包括S1、等离子处理;S2、超声处理;S3、除胶;S4、除油;S5、微蚀处理;S6、活化处理:配置活化液,将经过微蚀处理的多层PCB放入活化液中,使胶体钯微粒吸附到多层PCB的板面和孔壁上;S7、加速处理;S8、化学镀铜处理;通过本发明的沉铜工艺加工多层PCB,可以保证多层PCB上小孔壁的背光超过9级,同时也缩短了沉铜起镀时间,在大批量生产多层PCB时,可以提高沉铜工艺的工作效率,活化液中的氯化钯采用聚乙烯吡咯烷酮作为分散剂,提高了活化液的分散性,应用于沉铜时不需要解胶,简化了沉铜工艺,葡萄糖溶液作为还原剂,可以自然分解,绿色环保。 | ||
搜索关键词: | 多层 pcb 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广德宝达精密电路有限公司,未经广德宝达精密电路有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211192414.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理