[发明专利]在柔性碳基底生长垂直二硫化钨的方法、二硫化钨-碳复合材料及应用在审

专利信息
申请号: 202211124043.1 申请日: 2022-09-15
公开(公告)号: CN115483041A 公开(公告)日: 2022-12-16
发明(设计)人: 巩倩;康黎星;李清文 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: H01G11/86 分类号: H01G11/86;H01G11/36;H01G11/32;H01G11/46
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 王茹
地址: 215123 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种在柔性碳基底生长垂直二硫化钨的方法、二硫化钨‑碳复合材料及应用。所述方法包括:在碳纳米管薄膜上生长形成碳镀层,得到碳镀层/碳纳米管复合薄膜;在其表面生长三氧化钨,得到三氧化钨/碳镀层/碳纳米管复合薄膜;再进行硫化处理,使形成的二硫化钨纳米片垂直生长于碳镀层/碳纳米管复合薄膜上,制得二硫化钨‑碳复合材料。本发明通过化学气相沉积方法,在易于滑移变形的CNT薄膜表面沉积碳镀层,可阻止CNTs的滑移,改善基底的稳定性,进而有效实现二硫化钨纳米片的垂直生长,制备过程简单,易于控制;并且,制备得到的二硫化钨纳米片垂直率高,在很大程度上保证较多的活性边缘暴露,在电化学领域应用前景广泛。
搜索关键词: 柔性 基底 生长 垂直 硫化 方法 复合材料 应用
【主权项】:
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