[发明专利]超光学器件以及制造超表面的方法在审
| 申请号： | 202211108166.6 | 申请日： | 2022-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN115903092A | 公开（公告）日： | 2023-04-04 |
| 发明（设计）人： | 李政烨;廉根永;金熙株;洪宗佑;金琏熙;裵纪德;裵海洙 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社;成均馆大学校产学协力团 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张波 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种超光学器件以及制造超表面的方法。超光学器件包括基板和纳米结构，其中该纳米结构包括在直径和周期中的至少一个方面不同的第一部分和第二部分，其中第二部分的蚀刻深度与第一部分的蚀刻深度的比率为约0.9至约1.1，并且该纳米结构包括硫、氟和碳氟化合物中的至少一种。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 器件 以及 制造 表面 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社;成均馆大学校产学协力团，未经三星电子株式会社;成均馆大学校产学协力团许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202211108166.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
