[发明专利]一种双屏水印覆盖方法、装置、设备及介质在审

专利信息
申请号: 202211101002.0 申请日: 2022-09-09
公开(公告)号: CN116301684A 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 朱永超;黎小华;雷浩;张整新 申请(专利权)人: 成都飞机工业(集团)有限责任公司
主分类号: G06F3/14 分类号: G06F3/14;G06F9/451;G06F21/16;G06T1/00
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 杨子亮
地址: 610092 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 本申请公开了一种双屏水印覆盖方法、装置、设备及介质,包括:根据主屏幕和副屏幕的排列组合方式,获取所述排列组合方式对应的二维显示坐标图;获得第一位置关系或第二位置关系;判断所述第一位置关系或所述第二位置关系中所述副屏幕的起始坐标值中的横轴坐标值与所述主屏幕宽度的大小关系,以获得所述主屏幕与所述副屏幕的第一确定位置关系或第二确定位置关系;根据所述第一确定位置关系或所述第二确定位置关系,获取所述主屏幕与所述副屏幕的目标置顶覆盖水印。本申请针对第一确定位置关系或第二确定位置关系,计算不同位置关系对应的置顶覆盖水印的尺寸,极大减小对内存的占用,实现了屏幕水印的双屏最小完全覆盖。
搜索关键词: 一种 双屏 水印 覆盖 方法 装置 设备 介质
【主权项】:
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