[发明专利]一种γ射线辐照工业化制备共价有机框架材料的方法及应用在审

专利信息
申请号: 202211083276.1 申请日: 2022-09-06
公开(公告)号: CN115322316A 公开(公告)日: 2022-11-11
发明(设计)人: 刘鹏;刘志鑫;姜岩昕;马福秋;薛云;吉明波 申请(专利权)人: 哈尔滨工程大学
主分类号: C08G12/08 分类号: C08G12/08;B01J20/26;B01J20/30
代理公司: 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 代理人: 姜欢欢
地址: 150000 黑龙江*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种γ射线辐照工业化制备共价有机框架材料的方法及应用。本发明属于共价有机框架材料及其制备领域。本发明的目的是为了解决目前COFs材料的制备方法反应条件苛刻导致无法实现工业化生产的技术问题。本发明的方法:步骤1:向容器中加入TFB、DHBD、乙醇、1,3,5‑三甲基苯和醋酸溶液,超声至完全溶解;步骤2:向容器中通入惰性气体后密封,然后于γ射线辐照场中辐照,辐照后洗涤、干燥,得到共价有机框架材料。所得共价有机框架材料用于分离回收金属离子。本发明采用γ射线辐照的方法合成COFs材料,实现COFs材料快速工业化生产,本发明的方法相比于传统的COFs合成方法,具有温和、清洁、安全、高效、节能的特点。
搜索关键词: 一种 射线 辐照 工业化 制备 共价 有机 框架 材料 方法 应用
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