[发明专利]使用特征图像的三维掩模仿真中的掩模角圆化效应在审
| 申请号： | 202211073791.1 | 申请日： | 2022-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN115729055A | 公开（公告）日： | 2023-03-03 |
| 发明（设计）人： | 刘鹏 | 申请（专利权）人： | 美商新思科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 丁君军 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及使用特征图像的三维掩模仿真中的掩模角圆化效应。光刻掩模的布局几何形状被接收。布局几何形状包括具有一个或多个圆角的至少一个形状。布局几何形状被分割为例如从库中所选择的多个特征图像。特征图像包括至少一个掩模角圆化(MCR)校正的特征图像，其说明形状的圆角。特征图像具有对应的掩模3D(M3D)滤波器，其表示针对给定的源照明的特征图像的电磁散射效应。通过将特征图像与其对应的M3D滤波器进行卷积来计算来自特征图像中的每个特征图像的掩模函数贡献。掩模函数贡献被组合以确定用于由源照明所照明的掩模的掩模函数。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 特征 图像 三维 模仿 中的 掩模角圆化 效应 | ||
【主权项】：
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