[发明专利]使用特征图像的三维掩模仿真中的掩模角圆化效应

权利要求书

1.一种方法，包括：

接收光刻掩模的布局几何形状，所述布局几何形状包括具有一个或多个圆角的至少一个形状；

由一个或多个处理器将所述布局几何形状分割为多个特征图像，其中所述特征图像包括至少一个掩模角圆化MCR校正的特征图像，所述掩模角圆化校正的特征图像说明所述形状的所述圆角；

通过将所述特征图像与对应的掩模3D滤波器进行卷积，来计算来自所述多个特征图像中的每个特征图像的掩模函数MF贡献，其中与每个特征图像对应的所述掩模3D滤波器表示所述特征图像的电磁散射效应；以及

基于经计算的所述MF贡献的组合来确定用于所述光刻掩模的掩模函数。

2.根据权利要求1所述的方法，其中用于所述MCR校正的特征图像的所述掩模3D滤波器和用于与所述MCR校正的特征图像相对应的基于多边形的特征图像的掩模3D滤波器相同，其中所述基于多边形的特征图像基于尖角。

3.根据权利要求1所述的方法，其中将所述布局几何形状分割为多个特征图像包括：

将所述布局几何形状分割为多个基于多边形的特征图像；以及

校正所述基于多边形的特征图像中的至少一个基于多边形的特征图像，以产生所述MCR校正的特征图像。

4.根据权利要求3所述的方法，其中针对所述至少一个基于多边形的特征图像的校正通过所述圆角的角度和所述圆角的曲率而被参数化。

5.根据权利要求3所述的方法，其中针对所述至少一个基于多边形的特征图像的校正是基于由源照明所照明的具有圆角的所述特征图像、通过掩模结构的所述散射效应的严格电磁仿真而被确定的。

6.根据权利要求1所述的方法，其中将所述布局几何形状分割为多个特征图像包括：

将所述布局几何形状分割为多个基于多边形的特征图像；以及

针对具有圆角的至少一个形状，针对所述形状校正所述基于多边形的特征图像中的所有特征图像，以产生针对所述形状的MCR校正的特征图像。

7.根据权利要求6所述的方法，其中针对所述形状的所述特征图像由以下组成：区域图像、一个或多个单边缘图像和多个多边缘图像。

8.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：

将所述掩模函数作为输入应用于阿贝成像模型或霍普金斯成像模型。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述布局几何形状包括针对整个芯片的布局几何形状。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述光刻掩模的源照明是极紫外EUV或深紫外DUV照明。

11.一种系统，包括：

计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储指令和库，所述库包含预定义的特征图像和对应的预先计算的掩模3D滤波器；以及

处理器设备，所述处理器设备与所述计算机可读存储介质耦合并且用以执行所述指令，所述指令在被执行时使所述处理器设备以：

基于被包含在所述库中的所述预定义的特征图像将光刻掩模的布局几何形状分割为多个特征图像，所述多个特征图像包括至少一个MCR校正的特征图像；

通过将所述特征图像与来自所述库的所述相对应的掩模3D滤波器进行卷积，来计算来自所述多个特征图像中的每个特征图像的掩模函数MF贡献；以及

组合经计算的所述MF贡献以确定用于所述光刻掩模的掩模函数。

12.根据权利要求11所述的系统，其中在所述库中的所述预定义的特征图像包括基于多边形的特征图像，所述基于多边形的特征图像是基于尖角和用于说明圆角的掩模角圆化MCR校正的特征图像，并且所述掩模3D滤波器针对对应的基于多边形的特征图像和MCR校正的特征图像是相同的。