[发明专利]等离子体源和等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202211071966.5 | 申请日： | 2022-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN115811823A | 公开（公告）日： | 2023-03-17 |
| 发明（设计）人： | 加藤健太;池田太郎 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供等离子体源和等离子体处理装置，其能够容易地进行等离子体点火，提高气体的分解效率。等离子体源包括：等离子体生成部，其包括具开口的第一壁和与上述第一壁相对的第二壁，并构成等离子体生成空间；电介质窗，其以封闭上述开口的方式设置于上述第一壁，构成为能够使电磁波透射到上述等离子体生成空间；以及突出部，其设置于上述第二壁，以靠近上述电介质窗的方式从上述第二壁突出，且至少一部分包含导体，在上述突出部设置有朝向上述电介质窗开口的气孔。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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