[发明专利]一种12吋晶圆专用CMP抛光垫及其制作方法在审
| 申请号： | 202211068534.9 | 申请日： | 2022-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN115401624A | 公开（公告）日： | 2022-11-29 |
| 发明（设计）人： | 曾庆明;曾庆华;赵亮;左学良;李健;顾芳 | 申请（专利权）人： | 安徽格楠机械有限公司 |
| 主分类号： | B24D11/00 | 分类号： | B24D11/00;B24D11/02;B24D18/00;B24B37/24 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 241300 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种12吋晶圆专用CMP抛光垫，其特征在于：所述的CMP抛光垫由聚氨酯、研磨剂制作而成，所述的聚氨酯重量比为60‑80%、研磨剂重量比为20‑80%，所述的聚氨酯由聚合多元醇20‑58%、二异氰酸脂40‑72%、抗水解剂0.1‑3%、扩链剂2‑5%、空心填料0.1‑3%、增塑剂0.1‑2%、催化剂0.1‑0.5%组成。本发明采用物理发泡的方法制备聚氨酯片材使其泡孔均匀，采用高低压混合发泡方法，使其具有优越的耐磨性和均匀的泡孔，保证晶圆表面轮廓凸出部份高效平坦化并减少划伤，合成具有多重网络结构的聚氨酯材料设计，使其具有优异耐磨、耐腐蚀性能，在聚氨酯内加入研磨剂，使研磨剂填充在聚氨酯内的气泡中，使抛光垫更加均匀、紧密，提高抛光垫的耐磨性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 12 吋晶圆 专用 cmp 抛光 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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