[发明专利]一种大尺寸单晶二硫化钼的制备方法有效
申请号: | 202210982776.2 | 申请日: | 2022-08-16 |
公开(公告)号: | CN115354392B | 公开(公告)日: | 2023-09-01 |
发明(设计)人: | 何军;史建平;李辉;杨俊波;李晓辉 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | C30B25/00 | 分类号: | C30B25/00;C30B29/46;C30B29/64 |
代理公司: | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 马丽娜 |
地址: | 430072*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本申请涉及一种大尺寸单晶二硫化钼的制备方法,包括如下步骤:将硫源置于第一温区,将钼源及氯化亚铁粉置于第二温区,将蓝宝石衬底置于第三温区;使载气依次通过所述第一温区、所述第二温区和所述第三温区;将所述第一温区、所述第二温区和所述第三温区升温至各自的预定温度,进行单晶二硫化钼的生长。本申请制备方法,采用氯化亚铁辅助化学气相沉积的方法,在普通无切角蓝宝石衬底上即可制备晶圆级别单晶二硫化钼薄膜,铁掺杂可进一步调控二硫化钼的能带结构,优化沟道与电极的接触;简单易操作,过程可控,所得二硫化钼晶体畴区取向一致、无畴区晶界,表现出良好的层数均匀性和晶体质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 尺寸 二硫化钼 制备 方法 | ||
【主权项】:
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