[发明专利]一种五次元测量系统

摘要

本发明涉及机器视觉技术领域，尤其涉及一种五次元测量系统。所述五次元测量系统包括测量台、影像探测系统和位置调节控制系统，所述测量台设有用于放置待测样品的透光样品台以及位于透光样品台下方照射待测样品的光源组件，所述位置调节控制系统设于测量台上用于调节控制透光样品台位置，所述影像探测系统包括与透光样品台相对的测量镜头、与测量镜头连接的影像处理模块以及镜头安装架，所述镜头安装架在环绕测量镜头的周边布置有第一阵列灯光圈，所述光源组件包括至少一组第二阵列灯光圈。本发明提供的五次元测量系统通过灯光圈的点阵结构，能均匀全方位的无死角照明样品，更精确高效地测量尺寸。