[发明专利]双界面卡制造工艺及双界面卡在审
申请号: | 202210925485.X | 申请日: | 2022-08-03 |
公开(公告)号: | CN115179571A | 公开(公告)日: | 2022-10-14 |
发明(设计)人: | 许光;程鹏;钟旭峰 | 申请(专利权)人: | 捷德(中国)科技有限公司 |
主分类号: | B29D17/00 | 分类号: | B29D17/00;G06K19/077 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 王德洋 |
地址: | 330096 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请公开了双界面卡制造工艺及双界面卡。双界面卡制造工艺包括:设置第一基层,第一基层预设有多个间隔设置的第一孔;设置中间层,中间层的内部预埋设多个间隔设置的线圈;设置第二基层;将第一基层、中间层及第二基层顺次层叠设置;在将第一基层、中间层及第二基层层叠设置之前或之后,对应各第一孔分别设置芯片模块,将芯片模块与对应的线圈电连接;将第一基层、中间层、第二基层及各芯片模块固定相接,形成基板;将基板冲裁形成多个卡片。本申请实施例提供的双界面卡制造工艺,能够有效缩短生产流程,提升生产效率。 | ||
搜索关键词: | 界面 制造 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于捷德(中国)科技有限公司,未经捷德(中国)科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210925485.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 双界面卡-202222027787.3
- 许光;程鹏;钟旭峰 - 捷德(中国)科技有限公司
- 2022-08-03 - 2022-12-06 - B29D17/00
- 本申请公开了双界面卡。双界面卡包括第一基层、中间层及芯片模块,第一基层与中间层层叠设置;第一基层开设有第一孔,芯片模块的至少一部分安装于第一孔内;中间层埋设有线圈,线圈的至少一部分暴露且铺设于中间层朝向第一基层的表面,芯片模块通过导电介质与线圈暴露于中间层朝向第一基层的表面的部分电连接。本申请实施例提供的双界面卡,通过将线圈的至少一部分暴露且铺设与中间层朝向第一基层的表面,在将芯片模块安装于第一孔的过程中,芯片模块能够与线圈暴露且平铺于中间层朝向第一基层表面的一部分通过导电介质电连接,线圈不会占据第一孔内的空间,解决了线圈占据第一孔内的空间而影响芯片模块的安装所引起的卡片质量问题。
- 双界面卡制造工艺及双界面卡-202210925485.X
- 许光;程鹏;钟旭峰 - 捷德(中国)科技有限公司
- 2022-08-03 - 2022-10-14 - B29D17/00
- 本申请公开了双界面卡制造工艺及双界面卡。双界面卡制造工艺包括:设置第一基层,第一基层预设有多个间隔设置的第一孔;设置中间层,中间层的内部预埋设多个间隔设置的线圈;设置第二基层;将第一基层、中间层及第二基层顺次层叠设置;在将第一基层、中间层及第二基层层叠设置之前或之后,对应各第一孔分别设置芯片模块,将芯片模块与对应的线圈电连接;将第一基层、中间层、第二基层及各芯片模块固定相接,形成基板;将基板冲裁形成多个卡片。本申请实施例提供的双界面卡制造工艺,能够有效缩短生产流程,提升生产效率。
- 光学信息记录介质的制造方法-201480010679.0
- 见上龙雄 - 富士胶片株式会社
- 2014-01-22 - 2019-02-22 - B29D17/00
- 本发明提供一种光学信息记录介质的制造方法,其可以在基板的两面上设置引导凹槽之后形成记录层等的时候,抑制引导凹槽的污染或损伤。光学信息记录介质的制造方法为准备在单面上形成有第1引导凹槽15A的基板材料10A,在基板材料10A的未形成第1引导凹槽15A的面与印模50之间配置能量固化树脂材料,并使能量固化树脂材料固化从而形成第2引导凹槽15B。然后,在保留印模50作为第2引导凹槽15B的保护部件的状态下保持带有印模50的基板10,并且在第1引导凹槽15A一侧设置至少一层记录层21和覆盖层。然后,将印模50剥离从而使第2引导凹槽15B露出,并在第2引导凹槽15B一侧设置至少一层的记录层21和覆盖层。
- 适合于双层内部图案化的多层光学膜-200980157325.8
- 威廉·沃德·梅里尔;道格拉斯·S·邓恩;普热梅斯瓦夫·P·马尔科维茨 - 3M创新有限公司
- 2009-12-22 - 2012-01-25 - B29D17/00
- 本发明公开了反射膜,所述反射膜包括第一光学叠堆和第二光学叠堆,所述第一光学叠堆提供第一反射特性,所述第二光学叠堆提供第二反射特性。所述光学叠堆也具有第一吸收特性和第二吸收特性,在暴露于具有刻绘波长的光时,所述第一吸收特性和所述第二吸收特性适于吸收性地加热各自的叠堆,同时保持所述叠堆的结构完整性。所述吸收性加热可将所述第一反射特性和所述第二反射特性分别改变为第三反射特性和第四反射特性。另外,可以在所述光学叠堆之间提供阻挡层,所述阻挡层至少部分地阻挡所述刻绘波长的光,以允许吸收性地加热所述光学叠堆中的任何选定的一者。因此,可通过适当地递送包括所述刻绘波长的光束,以任何所需图案来独立地修改所述光学叠堆的所述反射特性。
- 有效长度增加的超声端部操纵装置-200880100682.6
- F·B·斯图伦;K·L·豪瑟;V·P·小巴塔格利亚;B·D·伯克 - 伊西康内外科公司
- 2008-07-24 - 2010-06-30 - B29D17/00
- 本发明涉及一种端部操纵装置,所述端部操纵装置包括:具有第一声阻抗率值的第一部分和具有第二声阻抗率值的第二部分,所述第二声阻抗率值小于所述第一声阻抗率值。所述第一部分包括所述端部操纵装置的近端段和所述端部操纵装置的远端段,并且所述近端段和所述远端段由第一材料构成。所述第二部分包括所述端部操纵装置的插入段,所述插入段由第二材料构成。所述插入段沿所述端部操纵装置的所述纵向轴线位于所述近端段和所述远端段之间。所述插入段起着跨越或填充所述波节能隙的作用。一种手术器械,所述手术器械包括换能器,所述换能器被配置成以预定频率沿纵向轴线产生振动。一种超声刀片,所述超声刀片沿所述纵向轴线延伸并连接到所述换能器。
- 制备多层光记录介质的方法和压模以及制造该压模的方法-200780003792.6
- 住冈由香里 - 佳能株式会社
- 2007-01-19 - 2009-02-25 - B29D17/00
- 本发明提供一种用于制备多层光记录介质的压模,其能够用简单的步骤制备且可以被重复地使用。特别地,提供一种用于制备多层光记录介质的压模(115),包括:透光的基板(111);和透光的无机抗蚀剂层(112),其中在基板上形成坑或导槽。而且,所述压模对用于图案化所述无机抗蚀剂层的曝光的光具有10%或更大的吸收率,且对当压模被使用时所使用的紫外线具有19%或更大的透射率。而且,所述无机抗蚀剂层包含具有其中从化学计量成分丢失氧的成分的氧化钨或氧化钼。
- 专利分类