[发明专利]基于光催化机理的碳化硅化学机械抛光液在审
| 申请号： | 202210918975.7 | 申请日： | 2022-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN115386298A | 公开（公告）日： | 2022-11-25 |
| 发明（设计）人： | 汤庭滨;肖辉亚;黄灿容;马楠楠;李光;侯康生;韦苏琳 | 申请（专利权）人： | 深圳市永霖科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/18;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京棘龙知识产权代理有限公司 11740 | 代理人： | 刘传勇 |
| 地址： | 518038 广东省深圳市龙华区观*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及基于光催化机理的碳化硅化学机械抛光液技术领域，尤其涉及在光催化作用下产生活性物质，光催化化学反应领域，包括如下步骤：步骤S1：取质量百分比m0酯类化合物改性质量百分比m1的光催化剂和质量百分比m2的研磨颗粒；步骤S2：用超声波恒温T1处理时间t1，改性后渗透率强，有助于降低被抛光晶圆的粗糙度；步骤S3：将上述处理后的光催化剂和研磨颗粒分散在纯水中，并用双氧水调节PH值。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 光催化 机理 碳化硅 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
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