[发明专利]刻蚀仿真模型的构建方法在审
| 申请号： | 202210917600.9 | 申请日： | 2022-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN116467992A | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 卢俊勇 | 申请（专利权）人： | 先进半导体材料（安徽）有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;G06F30/398;G06T7/00;G06T7/13 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 徐文欣 |
| 地址： | 239004 安徽省滁州市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种刻蚀仿真模型的构建方法，包括：提供包含t组参数组的初始刻蚀概率卷积模型；提供v个矩形的第一光刻设计图案；形成v个第一刻蚀凹槽；获取v个第一刻蚀轮廓的尺寸；根据v个第一光刻设计图案的尺寸和v个第一刻蚀轮廓的尺寸，获取v组刻蚀偏差尺寸；跟据初始刻蚀概率卷积模型、v个第一光刻设计图案的尺寸、以及v组刻蚀偏差尺寸，获取隐式拟合增量迭代模型；根据隐式拟合增量迭代模型，进行若干次增量迭代处理，获取刻蚀概率阈值的值、以及t组参数组的值；将t组参数组的值代入初始刻蚀概率卷积模型，形成刻蚀概率卷积模型；基于刻蚀概率卷积模型和刻蚀概率阈值的值，构建二维刻蚀仿真模型。从而可构建出高精确度的刻蚀仿真模型。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 仿真 模型 构建 方法 | ||
【主权项】：
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