[发明专利]刻蚀仿真模型的构建方法在审
| 申请号： | 202210917599.X | 申请日： | 2022-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN116467991A | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 卢俊勇 | 申请（专利权）人： | 先进半导体材料（安徽）有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;G06F30/398;G06T7/00;G06T7/13 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 徐文欣 |
| 地址： | 239004 安徽省滁州市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种刻蚀仿真模型的构建方法，包括：获取二维刻蚀仿真模型；提供若干第一光刻图案组，包括多个呈阵列排布的第一光刻设计图案，不同第一光刻图案组的第一光刻设计图案的尺寸不同；基于若干个第一光刻图案组对样本进行刻蚀，形成相应的若干第一样本组；对若干第一样本组进行检测，获取若干检测位置对应的若干检测数据，包括检测位置的位置数据和刻蚀深度；根据若干第一光刻图案组、二维刻蚀仿真模型和若干检测位置，获取若干指定目标仿真位置对应的若干指定仿真数据；根据若干检测数据、若干指定仿真数据和二维刻蚀仿真模型，构建三维刻蚀仿真模型。从而，实现了同时对二维的刻蚀轮廓和三维的刻蚀形貌进行仿真。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 仿真 模型 构建 方法 | ||
【主权项】：
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