[发明专利]一种厚膜负性光刻胶及配胶方法有效
| 申请号： | 202210909623.5 | 申请日： | 2022-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN115138230B | 公开（公告）日： | 2023-06-13 |
| 发明（设计）人： | 卞玉桂;杨彦;陆晓健;安杨翔;张兵;向文胜;赵建龙 | 申请（专利权）人： | 江苏艾森半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038;B01F23/43;B01F23/47 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种厚膜负性光刻胶及配胶方法，将各组分按照设定的配比投入到具有公转与自转双重旋转运动的搅拌装置中，然后加入适量数量配比的多种不同直径规模的氧化锆珠，设定所述搅拌装置的公转速度为20～60转/分钟、自转速度为20～60转/分钟，开启所述搅拌装置将各组分搅拌混合均匀。本发明能够将配比不同的且粘度不同的组分充分混合均匀，大大提高了混合效果与混合效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 厚膜负性 光刻 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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