[发明专利]基于物方体素及几何特征约束的深度图融合方法有效
申请号: | 202210900807.5 | 申请日: | 2022-07-28 |
公开(公告)号: | CN115187843B | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
发明(设计)人: | 刘振东;张帅哲;洪志远;屈文虎;蔡昊琳 | 申请(专利权)人: | 中国测绘科学研究院 |
主分类号: | G06V10/80 | 分类号: | G06V10/80;G06V10/30 |
代理公司: | 北京市盛峰律师事务所 11337 | 代理人: | 于国强 |
地址: | 100830 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于物方体素及几何特征约束的深度图融合方法,包括如下步骤,S1、体素网格尺寸计算;S2、基于几何特征约束的融合点代价值计算;S3、基于物方体素约束的融合点筛选。优点是:本发明方法通过物方体素约束并顾及三维场景的几何特征结构,构建评价融合点质量的评价函数,能够有效的降低点云密度同时能保证密集点云的质量,便于基于密集点云的几何表面重建效率甚至点云语义分割等后续应用。本发明方法中物方体素约束能够实现点云密度的降低,利用多重几何特征约束,去除密集点云中的噪声和异常点,解决点云质量参差不齐的问题。 | ||
搜索关键词: | 基于 物方体素 几何 特征 约束 深度 融合 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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