[发明专利]一种弯曲应变片的制备方法在审
申请号: | 202210883358.8 | 申请日: | 2022-07-26 |
公开(公告)号: | CN115356889A | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
发明(设计)人: | 刘志涛;徐颖龙;张丁山;王钦;虞成城 | 申请(专利权)人: | 深圳市信维通信股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/68 |
代理公司: | 深圳市博锐专利事务所 44275 | 代理人: | 张丽方 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种弯曲应变片的制备方法,包括如下步骤,采用3D扫描技术获取曲面基底的贴合部位的3D模型;制作与所述3D模型的形状一致的曲面治具;使用所述曲面治具压带基材的金属箔以形成带基材的曲面金属箔;制作曲面掩模板;使用所述曲面掩模板对所述曲面金属箔进行显影,使用蚀刻液对显影后的所述曲面金属箔进行蚀刻形成应变片。本弯曲应变片的制备方法通过采用3D扫描技术制作出的曲面治具压带基材的金属箔以形成带基材的曲面金属箔,令形成的曲面应变片与曲面基底的贴合部位的形状一致,使得应变片可以直接贴合于曲面基底上而不需要对曲面基底表面进行打磨,有利于提升组装效率的同时还能保证曲面基底不受破坏。 | ||
搜索关键词: | 一种 弯曲 应变 制备 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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