[发明专利]一种薄膜沉积设备腔体清洁装置及清洁方法在审
申请号: | 202210840948.2 | 申请日: | 2022-07-18 |
公开(公告)号: | CN115041465A | 公开(公告)日: | 2022-09-13 |
发明(设计)人: | 童洲;黄中山 | 申请(专利权)人: | 盛吉盛半导体技术(上海)有限公司 |
主分类号: | B08B5/02 | 分类号: | B08B5/02;B08B5/04;B08B13/00 |
代理公司: | 上海骁象知识产权代理有限公司 31315 | 代理人: | 赵俊寅 |
地址: | 201304 上海市浦东新区中国(上海)*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种薄膜沉积设备腔体清洁装置及清洁方法,属于产品腔体清洁技术领域,解决了现有的产品腔体清洁存在需手动清洁和清洁效果差的问题,其技术要点是:工作台的一侧开设有配合槽,配合槽上设置有吹风机构和抽风机构,配合槽的外侧设置有夹持机构,第一支撑柱与第二支撑柱的连接处设置有升降驱动机构,第二支撑柱的底部设置有万向轮,吹风机构便于将待清洁产品内的颗粒杂质吹起,抽风组便于将吹起的颗粒杂质抽取至收集组内收集,夹持机构便于对待清洁产品进行夹持固定,升降驱动机构便于驱动工作台根据待清洁产品的高度下降调节至合适的位置进行相应的配合连接,保证了抽吸操作的稳定进行,具有无需手动清洁和清洁效果好的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 薄膜 沉积 设备 清洁 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于盛吉盛半导体技术(上海)有限公司,未经盛吉盛半导体技术(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210840948.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。