[发明专利]一种薄膜沉积设备腔体清洁装置及清洁方法在审

专利信息
申请号: 202210840948.2 申请日: 2022-07-18
公开(公告)号: CN115041465A 公开(公告)日: 2022-09-13
发明(设计)人: 童洲;黄中山 申请(专利权)人: 盛吉盛半导体技术(上海)有限公司
主分类号: B08B5/02 分类号: B08B5/02;B08B5/04;B08B13/00
代理公司: 上海骁象知识产权代理有限公司 31315 代理人: 赵俊寅
地址: 201304 上海市浦东新区中国(上海)*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 薄膜 沉积 设备 清洁 装置 方法
【说明书】:

发明公开了一种薄膜沉积设备腔体清洁装置及清洁方法,属于产品腔体清洁技术领域,解决了现有的产品腔体清洁存在需手动清洁和清洁效果差的问题,其技术要点是:工作台的一侧开设有配合槽,配合槽上设置有吹风机构和抽风机构,配合槽的外侧设置有夹持机构,第一支撑柱与第二支撑柱的连接处设置有升降驱动机构,第二支撑柱的底部设置有万向轮,吹风机构便于将待清洁产品内的颗粒杂质吹起,抽风组便于将吹起的颗粒杂质抽取至收集组内收集,夹持机构便于对待清洁产品进行夹持固定,升降驱动机构便于驱动工作台根据待清洁产品的高度下降调节至合适的位置进行相应的配合连接,保证了抽吸操作的稳定进行,具有无需手动清洁和清洁效果好的优点。

技术领域

本发明涉及产品腔体清洁领域,具体是涉及一种薄膜沉积设备腔体清洁装置及清洁方法。

背景技术

物理气相沉积技术是指在真空条件下采用物理方法将材料源(固体或液体)表面气化成气态原子或分子,或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术,物理气相沉积是主要的表面处理技术之一。PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类:真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。物理气相沉积的主要方法有:真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜和分子束外延等。相应的真空镀膜设备包括真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。随着沉积方法和技术的提升,物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等

现有设备清理腔体颗粒都是使用无尘布手动清洁,由于腔体内部结构复杂,会有很多狭小的空间无法清洁到,而颗粒对产品有着致命的威胁,严重的影响了产品良率,那改善腔体的洁净度就是重中之重,无法满足实际使用所需。

由上可见,现有的产品腔体清洁存在需手动清洁和清洁效果差的缺点,难以得到推广应用。

因此,需要提供一种薄膜沉积设备腔体清洁装置,旨在解决上述问题。

发明内容

针对现有技术存在的不足,本发明实施例的目的在于提供一种薄膜沉积设备腔体清洁装置及清洁方法,以解决上述背景技术中的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:

一种薄膜沉积设备腔体清洁装置,位于待清洁产品的外侧,包括工作台,所述工作台的一侧开设有便于配合连接待清洁产品的配合槽,所述配合槽上设置有吹风机构和抽风机构,所述抽风机构机构包括抽风组和收集组,所述配合槽的外侧设置有便于夹持固定待清洁产品的夹持机构,所述夹持机构包括夹持块、滑杆、固定板、弹簧和拉板,所述夹持块通过滑杆滑动连接于固定板上,所述固定板固定连接于工作台上,所述夹持块与固定板的连接处设置有弹簧,所述滑杆的一端固定连接有拉板,所述夹持块的内侧设置有便于防护的弹性密封垫,所述工作台的底部设置有若干便于支撑的第一支撑柱和第二支撑柱,所述第一支撑柱与第二支撑柱的连接处设置有升降驱动机构,所述第二支撑柱的底部设置有便于移动的万向轮。

作为本发明进一步的方案,所述吹风组包括吹风罩、储气罐和气压泵,所述吹风罩朝向待清洁产品的内部设置,所述吹风罩通过第三管道连通有储气罐,所述储气罐固定安装于工作台上,所述储气罐通过第四管道连通有气压泵,所述气压泵固定安装于工作台上。

作为本发明进一步的方案,所述抽风组包括吸风罩和抽风机,所述吸风罩固定安装于配合槽上,所述吸风罩朝向待清洁产品的内部设置,所述吸风罩通过第一管道固定连接有抽风机,所述抽风机固定安装于工作台上。

作为本发明进一步的方案,所述收集组包括收集箱、第一防尘网、第二防尘网和收纳盒,所述抽风机通过第二管道连通有收集箱,所述收集箱固定安装于工作台上,所述第一防尘网固定安装于收集箱的内部,所述收集箱的一侧开设有第二防尘网,所述收集箱的内部滑动连接有收纳盒,所述工作台的外侧铰接有便于隔音的隔音罩。

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