[发明专利]一种抗单粒子烧毁效应的快恢复二极管芯片及其制备方法有效
申请号: | 202210767073.8 | 申请日: | 2022-06-30 |
公开(公告)号: | CN115148787B | 公开(公告)日: | 2023-09-22 |
发明(设计)人: | 马文力;李浩;杨梦凡 | 申请(专利权)人: | 扬州国宇电子有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/868;H01L21/329 |
代理公司: | 南京源点知识产权代理有限公司 32545 | 代理人: | 罗超 |
地址: | 225000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了二极管芯片技术领域内的一种抗单粒子烧毁效应的快恢复二极管芯片及其制备方法。该种快恢复二极管芯片,包括:从下至上依次设置的重掺杂N型衬底、纵向N型缓冲层、轻掺杂N型外延层和轻掺杂P型保护层;还包括重掺杂P型阱、重掺杂N型阱和横向N型缓冲层,重掺杂P型阱设置于轻掺杂P型保护层内,重掺杂N型阱设置于重掺杂N型衬底上方,重掺杂N型阱设置于轻掺杂N型外延层和轻掺杂P型保护层侧方,横向N型缓冲层设置于重掺杂N型阱和轻掺杂N型外延层、轻掺杂P型保护层之间。该种快恢复二极管芯片通过重掺杂N型阱、横向N型缓冲层结合P型保护层,实现了快恢复二极管芯片抗单粒子烧毁性能的巨大提升。 | ||
搜索关键词: | 一种 粒子 烧毁 效应 恢复 二极管 芯片 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州国宇电子有限公司,未经扬州国宇电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210767073.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类