[发明专利]一种近红外双光子光敏染料IMBDP-Lys及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202210720552.4 | 申请日： | 2022-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN115010738A | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 钱鹰;刘瑞波;刘苗;刘巴蒂 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | C07F5/02 | 分类号： | C07F5/02;C09B23/10;A61K41/00;A61K47/54;A61K49/00;A61P35/00;A61P35/04 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 王艳 |
| 地址： | 211102 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种近红外双光子光敏染料IMBDP‑Lys及其制备方法和应用，所述双光子光敏染料IMBDP‑Lys包含吲哚‑氟硼二吡咯共轭结构及双溶酶体靶向基团。所述近红外双光子光敏染料IMBDP‑Lys的制备方法是由吲哚氟硼二吡咯IMBDP与1‑（2‑吗啉代乙基）‑1H‑吲哚‑3‑甲醛在哌啶催化下反应制得。所述近红外双光子光敏染料IMBDP‑Lys的应用是在近红外光照射下，近红外双光子光敏染料IMBDP‑Lys能高效释放单线态氧，诱导肿瘤细胞凋亡，抑制肿瘤细胞迁移。作为性能优异的近红外波段双光子光敏染料，在近红外波段双光子荧光成像、荧光标记及双光子光动力治疗方面具有广泛应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 红外 光子 光敏 染料 imbdp lys 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学，未经东南大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210720552.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：增材制造方法及具有尖角特征的构件
- 下一篇：金属-有机配位聚合物M
