[发明专利]一种近红外双光子光敏染料IMBDP-Lys及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种近红外双光子光敏染料IMBDP-Lys，其特征在于，包括如下结构式：

2.根据权利要求1所述的双光子光敏染料IMBDP-Lys，其特征在于，所述光敏染料IMBDP-Lys包括吲哚氟硼二吡咯IMBDP与1-(2-吗啉代乙基)-1H-吲哚-3-甲醛在哌啶催化下制备而成，所述吲哚氟硼二吡咯IMBDP结构式如下：

3.权利要求1或2所述的双光子光敏染料IMBDP-Lys的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：惰性气体保护和100～110℃下，吲哚氟硼二吡咯IMBDP与1-(2-吗啉代乙基)-1H-吲哚-3-甲醛在哌啶催化下反应6～8h，柱色谱提纯，得到所述双光子光敏染料。

4.根据权利要求3所述的一种双光子光敏染料IMBDP-Lys的制备方法，其特征在于，所述吲哚氟硼二吡咯IMBDP、1-(2-吗啉代乙基)-1H-吲哚-3-甲醛的摩尔比为1∶1.3～1∶2。

5.权利要求1所述的近红外双光子光敏染料IMBDP-Lys在作为双光子光动力治疗光敏剂中的应用。

6.根据权利要求5所述的应用，其特征在于，所述应用为对肿瘤细胞的光动力治疗，所述应用不涉及疾病的诊断和治疗方法。

7.权利要求1所述的近红外双光子光敏染料IMBDP-Lys在近红外波段双光子荧光成像或荧光标记中的应用，所述应用不涉及疾病的诊断和治疗方法。