[发明专利]PECVD设备的清洗时间预测方法、装置、设备及介质在审
| 申请号： | 202210687606.1 | 申请日： | 2022-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN114965901A | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 戴科峰;刘自然;何嵩;唐卓睿;吴国发 | 申请（专利权）人： | 季华实验室 |
| 主分类号： | G01N33/00 | 分类号： | G01N33/00 |
| 代理公司： | 佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙) 44377 | 代理人： | 陈椅行 |
| 地址： | 528200 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及半导体生产技术领域，具体公开了一种PECVD设备的清洗时间预测方法、装置、设备及介质，其中，方法包括以下步骤：在清洗PECVD设备时，获取预设采集时间内反应腔排出的尾气中的至少一种反应气体浓度变化信息和/或至少一种反应后气体浓度变化信息；基于反应气体浓度变化信息和/或反应后气体浓度变化信息，以及预设采集时间生成清洗进度函数；根据清洗进度函数生成预测时间信息和/或提醒信息；该方法基于清洗过程中反应腔排出的气体成分生成清洗进度函数，利用该清洗进度函数可快速分析出清洗工艺的进程及完成清洗的时间，使得用户能获知预测时间信息和/或提醒信息，从而实现清洗时长的准确控制。 | ||
| 搜索关键词： | pecvd 设备 清洗 时间 预测 方法 装置 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于季华实验室，未经季华实验室许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210687606.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
