[发明专利]PECVD设备的清洗时间预测方法、装置、设备及介质

权利要求书

1.一种PECVD设备的清洗时间预测方法，用于获取清洗PECVD设备反应腔所需的时间，其特征在于，所述PECVD设备基于气体腐蚀的方式进行反应腔清洗，所述方法包括以下步骤：

在清洗所述PECVD设备时，获取预设采集时间内所述反应腔排出的尾气中的至少一种反应气体浓度变化信息和/或至少一种反应后气体浓度变化信息；

基于反应气体浓度变化信息和/或反应后气体浓度变化信息，以及所述预设采集时间生成清洗进度函数；

根据所述清洗进度函数生成预测时间信息和/或提醒信息。

2.根据权利要求1所述的PECVD设备的清洗时间预测方法，其特征在于，所述根据所述清洗进度函数生成预测时间信息和/或提醒信息的步骤包括：

比较所述清洗进度函数和预设的基准函数，获取当前清洗进度信息；

根据所述当前清洗进度信息和所述预设的基准函数生成所述预测时间信息和/或所述提醒信息。

3.根据权利要求1所述的PECVD设备的清洗时间预测方法，其特征在于，所述清洗进度函数为所述反应腔内的杂质清除量关于时间的变化函数。

4.根据权利要求1所述的PECVD设备的清洗时间预测方法，其特征在于，所述方法还包括以下步骤：

在达到所述预测时间信息或所述提醒信息相应的时间后，获取所述尾气中的反应后气体浓度信息；

在所述反应后气体浓度信息为零时，生成清洗终止信号。

5.根据权利要求1所述的PECVD设备的清洗时间预测方法，其特征在于，所述方法还包括以下步骤：

在达到所述预测时间信息或所述提醒信息相应的时间后，生成清洗终止信号，或根据预设延时时间生成所述清洗终止信号。

6.根据权利要求1所述的PECVD设备的清洗时间预测方法，其特征在于，所述PECVD设备基于NF₃气体腐蚀进行所述反应腔清洗，所述反应后气体浓度变化信息为SiF₄气体的浓度变化信息。

7.根据权利要求1所述的PECVD设备的清洗时间预测方法，其特征在于，所述提醒信息包括至少一个的进度信息和与所述进度信息对应的时间点信息。

8.一种PECVD设备的清洗时间预测装置，用于获取清洗PECVD设备反应腔所需的时间，其特征在于，所述PECVD设备基于气体腐蚀的方式进行反应腔清洗，所述装置包括：

获取模块，用于在清洗所述PECVD设备时，获取预设采集时间内所述反应腔排出的尾气中的至少一种反应气体浓度变化信息和/或至少一种反应后气体浓度变化信息；

函数模块，用于基于反应气体浓度变化信息和/或反应后气体浓度变化信息，以及所述预设采集时间生成清洗进度函数；

预测模块，用于根据所述清洗进度函数生成预测时间信息和/或提醒信息。

9.一种电子设备，其特征在于，包括处理器以及存储器，所述存储器存储有计算机可读取指令，当所述计算机可读取指令由所述处理器执行时，运行如权利要求1-7任一项所述方法中的步骤。

10.一种存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时运行如权利要求1-7任一项所述方法中的步骤。