[发明专利]体声波谐振结构及其制作方法在审
申请号: | 202210626350.3 | 申请日: | 2022-06-02 |
公开(公告)号: | CN115102519A | 公开(公告)日: | 2022-09-23 |
发明(设计)人: | 郝梁博;刘家伟 | 申请(专利权)人: | 武汉光钜微电子有限公司 |
主分类号: | H03H9/02 | 分类号: | H03H9/02;H03H3/02 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 高天华;蒋雅洁 |
地址: | 430000 湖北省武汉市东湖高新技术开发区高新*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种体声波谐振结构及其制作方法,其中,所述体声波谐振结构包括:依次层叠于衬底上的反射结构、第一电极层、压电层、第二电极层;所述反射结构包括空腔;以及贯穿所述压电层的多个释放孔;其中,所述多个释放孔对应的多个释放孔位置之间相互关联,通过位置相互关联的所述多个释放孔,使得利用刻蚀工艺刻蚀牺牲层形成所述反射结构时,刻蚀速率大于预设刻蚀速率。 | ||
搜索关键词: | 声波 谐振 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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