[发明专利]一种光刻机的放晶圆装置在审
| 申请号： | 202210595922.6 | 申请日： | 2022-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN114675510A | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | 钟敏 | 申请（专利权）人： | 上海图双精密装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 林志豪 |
| 地址： | 200120 上海市浦东新区中国（*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻机的放晶圆装置，涉及到光刻机技术领域，包括箱体、第一输送机构、第二输送机构、光刻模块和硅片支撑机构，箱体的内部设有光刻室和输送室，第一输送机构设于光刻室内，且至少部分伸出箱体，第二输送机构设于输送室内，并一部分伸出箱体，光刻模块设于光刻室内并位于箱体的上侧内壁上，第一输送机构以及第二输送机构上分别可滑动地设有一硅片支撑机构，用于运载硅片。本发明中，可以在箱体的外部直接上料和卸料，无需打开箱体，能够实现光刻机的连续工作，能够实现硅片的完整度的检测，可以将表面磨损或不完整的硅片自动剔除，能够保证加工的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 放晶圆 装置 | ||
【主权项】：
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