[发明专利]一种光刻机的放晶圆装置

说明书

本发明公开了一种光刻机的放晶圆装置，涉及到光刻机技术领域，包括箱体、第一输送机构、第二输送机构、光刻模块和硅片支撑机构，箱体的内部设有光刻室和输送室，第一输送机构设于光刻室内，且至少部分伸出箱体，第二输送机构设于输送室内，并一部分伸出箱体，光刻模块设于光刻室内并位于箱体的上侧内壁上，第一输送机构以及第二输送机构上分别可滑动地设有一硅片支撑机构，用于运载硅片。本发明中，可以在箱体的外部直接上料和卸料，无需打开箱体，能够实现光刻机的连续工作，能够实现硅片的完整度的检测，可以将表面磨损或不完整的硅片自动剔除，能够保证加工的质量。

技术领域

本发明涉及到光刻机技术领域，尤其涉及到一种光刻机的放晶圆装置。

背景技术

光刻机，又称为掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

但是，现有的光刻机通常在每次检测前都需要打开柜门以放入晶圆，再关上柜门进行光刻操作，在光刻操作完成后需要重新打开柜门，取出已光刻好的晶圆硅片，再将待光刻的晶圆放入，并重复以上操作，操作麻烦，并且光刻机不能连续进行作业。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光刻机的放晶圆装置，用于解决上述技术问题。

本发明采用的技术方案如下：一种光刻机的放晶圆装置，包括箱体、第一输送机构、第二输送机构、光刻模块和硅片支撑机构，所述箱体的内部设有光刻室和输送室，所述第一输送机构设于所述光刻室内，且至少部分伸出所述箱体，所述第二输送机构设于所述输送室内，并一部分伸出所述箱体，所述光刻模块设于所述光刻室内并位于所述箱体的上侧内壁上，所述第一输送机构以及所述第二输送机构上分别可滑动地设有一所述硅片支撑机构，用于运载所述硅片。

作为优选，所述第一输送机构包括两个平行设置的第一滑轨以及设于每一所述第一滑轨上的第一滑块，两所述第一滑轨的一端伸出所述箱体。

作为进一步的优选，所述第二输送机构包括两个并排设置的第二滑轨以及设于每一所述第二滑轨上的第二滑块，其中，所述第一滑块以及所述第二滑块分别与一所述硅片支撑机构连接。

作为进一步的优选，还包括剔除机构，所述剔除机构设于所述光刻室内，所述剔除机构包括回收箱、第一电动伸缩杆、第三滑轨和第一吸盘，所述第三滑轨设于所述箱体的上侧内壁上，并位于所述光刻模块远离所述输送室的一侧，所述第三滑轨上设有所述第一电动伸缩杆，所述第一电动伸缩杆的下端设有所述第一吸盘，所述箱体的一侧外壁上设有所述回收箱，所述箱体的一侧开设有回收口，所述回收箱与所述回收口连通。

作为进一步的优选，还包括导料板，所述光刻室内设有所述导料板，所述导料板的一侧与所述回收口的底壁一侧相抵，所述导料板的另一侧的高度高于所述导料板的一侧的高度。

作为进一步的优选，所述光刻室内设有硅片检测工位和硅片加工工位，所述剔除机构位于所述硅片检测工位，所述光刻模块位于所述硅片加工工位。

作为进一步的优选，还包括相机，所述硅片检测工位的底部以及顶部均设有所述相机，用于检测所述硅片的完整度。

作为进一步的优选，还包括第一传感器，所述光刻室内设有所述第一传感器，所述第一传感器位于所述光刻模块的正下方。

作为进一步的优选，还包括第三输送机构，所述第三输送机构包括第三导轨以及设于所述第三导轨上的第三滑块，所述第三导轨的一端位于所述输送室内，且所述第三导轨的一端设有直线电机，所述第三导轨的另一端延伸至所述硅片加工工位内，所述第三导轨上还设有一所述硅片支撑机构，且所述直线电机驱动所述硅片支撑机构。