[发明专利]一种光刻机的放晶圆装置

权利要求书

1.一种光刻机的放晶圆装置，其特征在于，包括箱体、第一输送机构、第二输送机构、光刻模块和硅片支撑机构，所述箱体的内部设有光刻室和输送室，所述第一输送机构设于所述光刻室内，且至少部分伸出所述箱体，所述第二输送机构设于所述输送室内，并一部分伸出所述箱体，所述光刻模块设于所述光刻室内并位于所述箱体的上侧内壁上，所述第一输送机构以及所述第二输送机构上分别可滑动地设有一所述硅片支撑机构，用于运载所述硅片。

2.如权利要求1所述的光刻机的放晶圆装置，其特征在于，所述第一输送机构包括两个平行设置的第一滑轨以及设于每一所述第一滑轨上的第一滑块，两所述第一滑轨的一端伸出所述箱体。

3.如权利要求2所述的光刻机的放晶圆装置，其特征在于，所述第二输送机构包括两个并排设置的第二滑轨以及设于每一所述第二滑轨上的第二滑块，其中，所述第一滑块以及所述第二滑块分别与一所述硅片支撑机构连接。

4.如权利要求2所述的光刻机的放晶圆装置，其特征在于，还包括剔除机构，所述剔除机构设于所述光刻室内，所述剔除机构包括回收箱、第一电动伸缩杆、第三滑轨和第一吸盘，所述第三滑轨设于所述箱体的上侧内壁上，并位于所述光刻模块远离所述输送室的一侧，所述第三滑轨上设有所述第一电动伸缩杆，所述第一电动伸缩杆的下端设有所述第一吸盘，所述箱体的一侧外壁上设有所述回收箱，所述箱体的一侧开设有回收口，所述回收箱与所述回收口连通。

5.如权利要求4所述的光刻机的放晶圆装置，其特征在于，还包括导料板，所述光刻室内设有所述导料板，所述导料板的一侧与所述回收口的底壁一侧相抵，所述导料板的另一侧的高度高于所述导料板的一侧的高度。

6.如权利要求4所述的光刻机的放晶圆装置，其特征在于，所述光刻室内设有硅片检测工位和硅片加工工位，所述剔除机构位于所述硅片检测工位，所述光刻模块位于所述硅片加工工位。

7.如权利要求6所述的光刻机的放晶圆装置，其特征在于，还包括相机，所述硅片检测工位的底部以及顶部均设有所述相机，用于检测所述硅片的完整度。

8.如权利要求7所述的光刻机的放晶圆装置，其特征在于，还包括第一传感器，所述光刻室内设有所述第一传感器，所述第一传感器位于所述光刻模块的正下方。

9.如权利要求6所述的光刻机的放晶圆装置，其特征在于，还包括第三输送机构，所述第三输送机构包括第三导轨以及设于所述第三导轨上的第三滑块，所述第三导轨的一端位于所述输送室内，且所述第三导轨的一端设有直线电机，所述第三导轨的另一端延伸至所述硅片加工工位内，所述第三导轨上还设有一所述硅片支撑机构，且所述直线电机驱动所述硅片支撑机构。

10.如权利要求1所述的光刻机的放晶圆装置，其特征在于，还包括搬运模块，所述搬运机构设于所述第二输送机构的上方，所述搬运模块包括设于所述输送室内的第四滑轨，所述第四滑轨上设有第二电动伸缩杆，所述第二电动伸缩杆的下端设有第二吸盘，所述第四滑轨的一侧设有用于驱动所述第二电动伸缩杆滑动的第一驱动电机。